三星打造17nm LPV工艺:28nm+14nm二合一

半导体工艺不只是,因为还有很多芯片并不需要太先进的制程,它们往往不太复杂,但对成本非常敏感。

今天,三星宣布推出全新的17lpv 17nm工艺,意为low power value。

其实,它就是28nm工艺的进化版,融合了28nm beol后端工序、14nm feol前端工序,也就是在28nm节点的基础上,加入了14nm finfet立体晶体管,只需不高的成本,就能享受后者的能效优势。

三星称,17nm lpv工艺相比传统28nm,芯片面积可缩小43%,可以带来39%的性能提升或者49%的能效提升。

三星17nm lpv工艺的量产时间没有说,但三星已经宣布第一个服务对象是isp图像信号处理器,属于三星自家的cmos传感器产品线。

此外,三星还打造了14nm lpu工艺,意味low power ultimate,但未透露详情,可能也是28nm beol加上14nm feol。

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