国产最新光刻机(国产新一代光刻机正式落地)

自从华为等中企被老美切断芯片代工渠道后,全球芯片格局就开始了潜移默化的改变,再加上芯片供应短缺问题的激化,整个半导体产业链彻底找不到了平衡点。

没机会了

除了台积电、三星、高通等数位IC芯片巨头纷纷递交供货申请之外,像ASML这样的光刻设备巨头也坐不住了,一方面是由于老美限制它出口利润最大的EUV光刻机,另一方面是因为我国正在自研光刻机,并不断实现突破。

ASML担心的不止是可能会彻底失去中国市场,更担心的是它近些年在我国的布局计划也可能会随之泡汤

于是,在去年,ASML先后四次示好中国市场。然而,可恨的是,给了我们希望的ASML却没有付诸任何行动,我们所急需的中高端光刻机一台都没到货。在这样的情况下,国内专家呼吁,不要再对外界抱任何幻想了,埋头钻研才是打开局面的唯一办法

谁曾想到,ASML首席官Peter在近日居然再次示好,且公开表示,愿意提供技术设备,帮助我国建立完整的半导体产业链,同时,还痛批老美断供华为芯片的行为。这充满“站队性”的表态可是破天荒的头一次。

且不论ASML这次是否真的有诚意,但可以肯定的是,它在我国市场或许是真的没机会了。

国产光刻机正式落地

近日,国产光刻机传出好消息,上海微电子自研的新一代光刻机已经过技术认证与检测,基本正式落地,预计年底之前便可量产商用

据悉,这款国产光刻机叫做深紫光光刻机,曝光精度达到了28nm,与DUV的工艺精度在同一范围内。

要知道,台积电在没有EUV光刻机的情况下,利用双重曝光的工艺,依靠DUV光刻机便成功量产了7nm芯片,而且英特尔也同样使用DUV光刻机制造出了10nm芯片。这意味着,国产28nm光刻机的出现,我们或将从28nm以上的中低端成熟工艺芯片制造水平,就此步入7nm芯片制造的先进水平。


而屡次示好但又反复的ASML,此刻对我们来说,已经没有唯一性。值得强调的是,近两年上海微电子在国内光刻市场的份额占比已提高到了80%,除非ASML能拿出最先进的EUV光刻机,否则,它没有和我们谈判的资本。

ASML计划泡汤?

很显然,ASML根本不可能冒着违背老美出口管制规则的风险卖给我们EUV,对于脱轨中国市场这个事实,它只能接受。更关键的是,它近些年在我国市场布局的计划或也就此泡汤。


自从我国展开自主造芯、自主研发光刻设备的行动后,ASML同样动作频频,首先是它位于深圳的研究所,大批高薪招募华人光刻工程师;另外,ASML在我国大量申请光刻专利,据统计,两年时间,ASML申请了2900多个

它究竟想干什么?用我国光刻专家来给它创造专利,是为了拖缓我们的光刻研发速度?还是让自己的技术水平更加强大?

除了这两点,还有更关键的一点,如果ASML提前占用专利,那么将来我们自产的光刻机则需要有它的授权才能正常使用


不得不说,ASML的计划足够决绝,如果真的让它得逞了,那么这道光刻专利壁垒或会在数年乃至十年内继续对我们“卡脖子”。

很可惜,国产光刻企业都早有准备,在研发过程中,均已申请相关专利,这让我们不至于那么被动,就算到了万不得已之时,也能以专利交叉授权的方式摆脱ASML的控制。

如今,ASML又在我国市场“失宠”,这个计划大概率是要泡汤了。

总结

然而,对于这种情况,我们真的该提高警惕了,尤其是对重点专项技术人才的保护!“人才”是科技的核心竞争力,相比设备技术,国产半导体崛起的路上更紧缺的是人才。

所以,下一步,我们不仅要注重并加大对本土人才的培养,更要把属于我们的“流失”人才给夺回来!

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